Si3N4在高温高压下的相变和显微结构*

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Si3N4在高温高压下的相变和显微结构*

更新时间：2025-10-30

- Si3N4在高温高压下的相变和显微结构*
- Aeronautical Manufacturing Technology Vol. 56, Issue 23/24, (2013)
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- Published：2013
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顾强，吴一，邹正光，龙飞，沈天宇，韩金龙. Si3N4在高温高压下的相变和显微结构*[J]. 航空制造技术, 2013, 56(23/24): 80-82.

[J]. Aeronautical Manufacturing Technology, 2013, 56(23/24).
顾强，吴一，邹正光，龙飞，沈天宇，韩金龙. Si3N4在高温高压下的相变和显微结构*[J]. 航空制造技术, 2013, 56(23/24): 80-82. DOI：

[J]. Aeronautical Manufacturing Technology, 2013, 56(23/24). DOI：

摘要

在压力为5GPa，温度为1500~1700℃，保温时间为10~20min的条件下，对添加Y2O3 - Al2O3的氮化硅陶瓷进行了高温高压烧结研究。用X射线衍射及扫描电镜对烧结样品进行了分析和观察，探讨了添加剂、烧结温度和保温时间对烧结体的物相组成、显微形貌和力学性能的影响。结果表明：高温高压下Si3N4的相变机制主要是通过液相溶解-沉淀，其相转变程度随温度、保温时间的增加均有所提高。α-Si3N4完全转变为β-Si3N4，得到相互交错的长柱状β-Si3N4晶粒均匀分布于烧结体中。经过5GPa、1650℃保温20min的超高压烧结，样品相对密度达到99.8%，Vickers硬度达22.8GPa，抗弯强度达886MPa。

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