为了克服电子束蒸镀技术的不足，提高蒸镀薄膜与基体的膜基结合力，通过增加射频线圈的方法，在电子束蒸镀沉积过程中实现了射频自体辉光放电。研究了放电参数对射频辉光放电反射功率的影响规律，结果表明采用3匝直径82mm的射频线圈条件下，最佳放电距离为100cm。电子束流在160mA以上时，起辉较容易，但是电子束流大于200mA后，蒸镀的膜层容易脱落。通过静电探针分析发现，放电产生的等离子体中离子密度高于1.0×1010atom/cm3，射频功率的增大提高了真空室中各个位置处的离子密度，尤其是线圈中心位置，导致了真空室中离子密度径向位置的不均匀性。当射频功率为170W时，各位置的离子密度急剧增加。